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PVD、ALD過程中的精密氣體流量控制

真空鍍膜系統(tǒng)內(nèi)凈化氣體和反應(yīng)氣體的輸入需要快速、穩(wěn)定、精確的控制。設(shè)計(jì)創(chuàng)新的ALICAT質(zhì)量流量控制器不但在性能可靠性上優(yōu)于傳統(tǒng)MFC，并提供可競爭的銷售價(jià)格。

真空鍍膜應(yīng)用中可靠產(chǎn)出的保障

?快速控制清潔氣和反應(yīng)氣的流量，從而確保真空鍍膜腔體內(nèi)最佳的氣體混合

?微小流量的精密控制 – 最小可控流量為0.025sccm!

?試驗(yàn)室和各種測試臺(tái)的首選

?開放行業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的通訊協(xié)議，如：EtherNet/IP，DeviceNet等，方便各種工業(yè)應(yīng)用

影響真空鍍膜最終結(jié)果的設(shè)備和因素

?壓力控制器、質(zhì)量流量控制器

?快速、精密的氣氛控制，以保障最佳鍍膜效果

?簡化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)，從而節(jié)省真空鍍膜設(shè)備的安裝和維護(hù)成本

?氣體可切換，以減少不必要的質(zhì)量流量控制器庫存

?適用于腐蝕性氣體的不銹鋼本體